半导体去胶清洗机
| 公司名称： | 厦门和伟达超声波设备有限公司 |
|---|---|
| 地 址： | 厦门火炬高新区（翔安）产业区翔虹路33号 |
| 手 机： | 向先生 13859984373 |
| 电 话： | 5656688 5656655 |
| 公司网址： | www.xm-heda.com |
| 价格： | 价格面议 |
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摘要
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半导体去胶机清洗机半导体硅片脱胶晶圆胶机去胶机厦门半导体清洗
产品介绍
功能介绍：
设备组成由超声波有机溶剂清洗槽、酒精超声波清洗槽、去胶超声波清洗槽（可单独设立）、DI水超声波清洗槽、热风烘干槽,慢提拉机构等组成，依旧客户需求定制设备流程及配置。
硅片清洗脱胶机主要用于光伏行业多晶和单晶硅棒经多线切割后的硅片预清洗和脱胶用，适用DS264，DS271，PV800，NTC442 等。
产品应用：
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
-浮渣去除
-化学残余物去除
-高剂量离子注入光刻胶的去除
-氮化硅刻蚀
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
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